“刻蚀”常见的英文表达是 “etching” 。在半导体制造、微电子工艺等相关领域中，这个词频繁使用，指通过化学或物理方法有选择性地去除材料表面特定部分，以形成所需图案或结构的过程。例如：
Dry etching is an important technique in semiconductor fabrication.（干法刻蚀是半导体制造中的一项重要技术。）
此外，在一些特定语境或专业文献中，根据刻蚀的具体原理，也可能用到 “etch”（动词形式，意为“刻蚀；蚀刻”） 或更具体的表达，如 “chemical etching”（化学刻蚀）、“plasma etching”（等离子体刻蚀） 等 。